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光催化反應器

型號:

產(chǎn)品時間:2024-07-31

簡要描述:

光催化反應器定制加工服務包括微通道的刻蝕、芯片切割打孔和芯片鍵合,我們經(jīng)過數(shù)年如一日的工藝探索,將上述工藝進行優(yōu)化,可實現(xiàn)常用多做玻璃材料的微通道加工和芯片鍵合,并建成低成本大批量柔性生產(chǎn)線,即可滿足科研用戶小量多次的科研需求,又可滿足微化工產(chǎn)業(yè)化用戶微通道反應器工藝開發(fā)和生產(chǎn)的要求。

詳細介紹

產(chǎn)品品牌:那央

產(chǎn)品介紹:

光催化反應器,定制加工服務包括微通道的刻蝕、芯片切割打孔和芯片鍵合,我們經(jīng)過數(shù)年如一日的工藝探索,將上述工藝進行優(yōu)化,可實現(xiàn)常用多做玻璃材料的微通道加工和芯片鍵合,并建成低成本大批量柔性生產(chǎn)線,即可滿足科研用戶小量多次的科研需求,又可滿足微化工產(chǎn)業(yè)化用戶微通道反應器工藝開發(fā)和生產(chǎn)的要求。

        光催化反應器定制加工服務
  • 可加工玻璃材質(zhì):鈉鈣玻璃(也即蘇打玻璃或綠玻璃),高硼硅玻璃(康寧、肖特)和石英玻璃(JSG-2)
  • 微通道加工方式:HF濕法刻蝕,激光刻蝕和機械加工
  • 切割和打孔方式:激光加工
  • 微通道加工尺寸:HF濕法刻蝕,常用微反應器微通道尺寸為50μm~1000μm(寬度加工能力小可達2μm,深度可控制在nm級別);激光加工,常用微反應器微通道尺寸為0.3~3mm(由于激光加工微通道底部粗糙度較大,加工大尺寸可選)。
  • 微通道深寬比:HF濕法刻蝕一般按照以下公式設計,預期寬度=設計寬度+刻蝕深度×2×a(a為刻蝕系數(shù),主要由玻璃材料決定);若選激光加工方式,深寬比基本不受限制。
  • 玻璃芯片鍵合:低溫預鍵合,高溫強化鍵合(低于軟化溫度),不會導致微通道在鍵合過程中壓縮塌陷;可實現(xiàn)雙層、三層和更多層鍵合。
  • 承受流體壓力:可達20bar,若加載環(huán)壓,可達10Mpa甚至40Mpa,后者適用于石油驅(qū)替研究(本公司可提供環(huán)壓裝置定制)。
  • 流體驅(qū)動:那央提供成套成熟的流體進出口接頭和夾具,可配套注射泵、蠕動泵及柱塞泵等。
  • 溫度控制:那央提供成套成熟的溫度控制設備,恒溫加熱(或梯度加熱)或恒溫制冷。

玻璃微通道芯片反應器濕法刻蝕:

>>底面光滑
>>透光性好
>>微通道邊緣整齊平滑

玻璃微通道芯片反應器激光刻蝕:

>>可加工大尺寸微通道
>>流體通量高
>>流體壓降小
>>底面為毛面,粗糙度約0.5μm
>>微通道邊緣約1~50μm崩邊

鈉鈣玻璃、硼硅玻璃和石英玻璃部分性能參數(shù)對比:

表:鈉鈣硅玻璃、高硼硅玻璃和石英玻璃的主要性能
序號 項目名稱 單位 鈉鈣硅玻璃  高硼硅玻璃  石英玻璃 
 1 密度  g/cm3  2.5  2.23  2.2
 2 膨脹系數(shù)    8.6~9.0  3.2  0.54
 3 抗熱沖擊性      ≥280  1200
 4 耐熱性能    ℃    500  1100
 5 化學穩(wěn)定性    差 好   好
 6 可見光透過率   %  81-88  92  95
 7 360~400nm紫外線    %    90~92  
 8  紅外線透過率   %    90~92  
 9  平均比熱      0.98  0.67
 10  彈性模量  KN/mm    64  
 11  抗張強度  N/mm²    35~100  
 12  作業(yè)溫度   ℃  1020  1270  2000
 13  軟化點   ℃  720  820  1680
 14  退火點   ℃  545  560  1210
 15  應變點   ℃  515  520  1120
 16  導熱率  Wm'K'  0.76-0.92  1.2  1.4

 

 


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